第一步先把AB拆開,得到A與B兩個圖案,然後将它們分别制作光掩膜版,緊接着用第一塊A字母的掩膜版在矽片上刻了A,再用B字母的掩膜版在矽片上刻上B,最終得到所需要的AB組合圖案。
八個字概括就是,精度不夠,工序來湊。
“要花兩倍的流片費用,高總,14納米的……”
陳星剛想問問流片費多少,卻發現高永明整個人止不住顫抖,瞳孔微縮的同時,充滿了恍然大悟與激動之色。
他身旁的兩位光刻工程師,也在喃喃低語。
“多重曝光…”
“既然單次精度不夠,為何不分兩次曝光呢?”
“好天才的想法…”
三人似乎進入了頓悟狀态,高永明本身就是幹這方面的,同時也是光刻領域的教授,他自然不會聽不懂林天在說什麼,現在他腦海隻有一段話:“多重曝光技術,DUV光刻機的春天終于要來了嗎?”
一陰一陽的圖案互補,理論上是絕對可以的,而且還能一分為四,雖然工序更複雜,還别說,7納米芯片真能造!
曲程也在驚歎這個想法,他怎麼說也是半導體領域院士,雖然不是光刻方面的,但步驟他可都是一清二楚的。
驚歎林天想法的同時,也在感慨陳星運氣怎麼這麼好,可以結識到這麼多天才。
高正謙、白衍、林天這三人,他都可以用怪胎形容了,而陳星可以同時和他們結交,并将其收入麾下,怪不得有人說,運氣也是實力的一部分。
不知過去多久,可能有足足十分鐘左右。
“呼——”
唐鑫宇長舒一口氣,看向高永明說道:“生産陰陽芯片掩膜版,沒準真能突破光刻機限制,造出14納米芯片。”
“我覺得可以一試。”
另一位龍芯國際的工程師也開口給予肯定。
以往他們的思維是,擁有多少納米精度的光刻機,就制造多少納米的芯片,這也是國際一直灌輸的刻闆理念,讓他們的思維固化。
當林天提出多重曝光技術,并解答原理後,他們瞬間醍醐灌頂,跳出了刻闆的固化思維,從而發現了新大陸。
高永明也是性情中人,雙膝猛然彎曲。
不過林天眼疾手快,一把将他扶住,忍不住吐槽道:“不是,你想幹嘛啊?”
“授業之恩,今生難忘,以貌識人,羞愧難當!”
高永明僅用十六個字,就解釋了他為何想跪。
多重曝光技術原理,簡直照亮了龍芯國際要前進的方向,就如同海上行駛時所見的燈塔,同時他也在羞愧,為什麼之前要用外表去評判一個人呢?
解決龐加萊猜想,拒絕數學菲爾茨獎,震驚全世界的佩雷爾曼還是個不修邊幅的“流浪漢”呢!
還有龍國的一些“掃地僧”,他們同樣不修邊幅,怎麼舒服,就怎麼來,在課堂講課時,還有人能當衆吸煙喝酒。
在意識到自己犯下錯誤後,高永明也是敢于承擔。
他身旁兩位工程師也照葫蘆畫瓢,想感謝林天的授業之恩,被陳星一手一個抱住。
“哎!都快2015年了,就别整這些繁文缛節了,不如講點實際的,流片費用能不能打個折。”最近轉碼嚴重,讓我們更有動力,更新更快,麻煩你動動小手退出閱讀模式。謝謝
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